四---碳公司-四---碳-安徽谱纯|货源充足

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四---碳是可作为氟和自由基---碳的来源，用于各种晶片蚀刻工艺。四---碳和氧结合用以蚀刻多晶硅、二氧化硅和氮化硅。因为导致臭氧层破坏的是氟氯烃中的氯原子，它被紫外线辐---中时会分离。碳-氟键比较强，因此分离的可能性比较低。四---碳在900℃时，不与铜、镍、钨、钼反应，仅在碳弧温度下缓慢分解，四---碳，微溶于水，高浓度四---碳，在25℃及0.1mpa下其溶解度为0.0015％重量比，然而与可燃性气体燃烧时，会分解产生有毒---物。